【48812】晶盛机电请求抛光机及抛光状况监测办法专利可延长机的惯例运用的寿数削减停机次数
时间: 2024-08-04 18:48:16 | 作者: 超细粉加工设备
产品特点
金融界 2024 年 7 月 9 日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，浙江晶盛机电股份有限公司请求一项名为“抛光机及抛光状况监测办法“专利，公开号 CN0.7，请求日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显现，本发明供给了一种抛光机及抛光状况监测办法，归于晶片抛光技能领域，处理了现存技能抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包含抛光盘，抛光盘上设有抛光垫，用于抛光晶片；抛光头，抛光头设置于抛光盘上方，抛光头包含：软基垫和本体，软基垫设置于抛光头底部，软基垫用于吸附晶片，本体设置于软基垫上方远离抛光垫的一侧，本体与软基垫之间构成一空腔；以及检测组件，包含磁场发生器和磁场检测器。本请求经过在抛光盘上设置磁场发生器以构成磁场，并运用磁场的磁吸力与抛光头内的磁场检测器相配合，然后快速检测晶片状况为正常运转或飞片，便于及时履行相应的抛光操控战略，可延长抛光机的惯例运用的寿数，削减停机次数。
工程案例
相关设备
